傳統(tǒng)作法是在鍍液中各種雜質(zhì)積累到一定程度,無法獲得滿意鍍層時,就要對鍍液進行大處理了。這里所說的雜質(zhì)主要是無機雜質(zhì)(如:鐵、銅、鉛、鋅、鉻等)和有機雜質(zhì)。
對于常見的無機雜質(zhì)目前廣泛使用的是第二代除雜劑。它是一種鰲合劑,能和銅、鐵等金屬形成配位體,使其沉積電位與鎳的沉積電位接近。與鎳共沉積,均勻地分散在鍍層中。
而有機雜質(zhì)主要是光亮劑的分解產(chǎn)物。當(dāng)有機雜質(zhì)積累到一定含量后,會出現(xiàn)兩種癥狀:一是低電流區(qū)鍍層不光亮,即使加人走位劑作用也不明顯。二是高電流區(qū)鍍層脆性明顯加大(鍍液中鐵雜質(zhì)多時也有這種現(xiàn)象)。當(dāng)出現(xiàn)這兩種現(xiàn)象時,就應(yīng)該大處理鍍液。
此外,當(dāng)鍍液中意外進入了鉻酸,硝酸等雜質(zhì)時,也要進行大處理。
處理鍍鎳溶液的傳統(tǒng)方法是先調(diào)低鍍液pH值,然后加入雙氧水并升高鍍液溫度,加入活性炭攪拌鍍液,調(diào)pH值靜置過夜。過濾,調(diào)pH,電解試鍍。
若不加雙氧水處理鐵鋅等雜質(zhì),而是選用金屬除雜劑來掩蔽這些金屬離子使之與鎳共沉積,就不需要升高鍍液溫度。加入粉末活性炭0.2~0.5g/L來吸附有機雜質(zhì)。這也是現(xiàn)在采用的一種處理方法。
如果要將光亮劑盡可能的吸附干凈,則應(yīng)該加入雙氧水以破壞光亮劑中的雙鍵或叁健,以利于活性炭吸附。活性炭要按每升鍍液l0g的量加入,在常溫下吸附攪拌l~2h后靜止過夜。過濾后調(diào)pH值,升溫后,余量雙氧水會自然分解。也可用少量高錳酸鉀將雙氧水破壞,但要在過濾前進行。
凈化結(jié)果采用霍爾槽方法檢驗。打試片結(jié)果應(yīng)該是基本均勻的淺灰色鎳層,如果有針孔,則說明有雙氧水未除凈。如果鍍層低區(qū)光亮,則說明活性炭已失效。應(yīng)重新處理鍍液。