硬質(zhì)陽極氧化處理采用直流電源或直流和交流疊加電源。其溶液種類也較多,以采用硫酸硬質(zhì)陽極氧化處理較普遍。
采用硫酸硬質(zhì)陽極氧化法時,應(yīng)考慮影響氧化膜層的各因素。
(1)硫酸氧化處理的濃度:常采用200~250g/L,槽液的相對密度(室溫下)為1.12~1.15。
(2)水:水是硬質(zhì)陽極氧化處理的主要成分,一般采用蒸餾水或冷開水,而不用自來水,因為自來水中含有氯離子,當Cl一>1%時,其制件在氧化過程中就會腐蝕,并出現(xiàn)白斑。
(3)氧化處理的溫度:溫度是影響氧化膜質(zhì)量的重要因素之一。嚴格控制溫度,其氧化膜增厚,硬度提高且光滑、致密。
(4)電流密度:電流也是影響氧化膜質(zhì)量的重要因素之一,它與氧化膜的生成速度、氧化膜的組織有較大關(guān)系。電流密度過低時,氧化膜的生成速度緩慢,處理時間增加;反之,過高時,會導致溶液和電極因焦耳效應(yīng)而過熱,使氧化膜溶解速度增加,硬度下降,表面粗糙、疏松起粉。
(5)初始電壓與處理時間:硬質(zhì)陽極氧化處理的初始電壓與時間對氧化膜質(zhì)量的影響也是很大的。初始的電壓過大,會導致電流的增加,焦耳熱和生成熱劇增,促使溶解速度猛增,氧化膜則軟,無光澤,起粉,不耐磨。
對于氧化處理時間,一般是隨著氧化處理時間的延長,氧化膜厚度增加,但到一定時間后,若不增加外加電壓,氧化膜實際不增加。如果繼續(xù)延長時間,則氧化膜硬度低,疏松起粉。相反,氧化處理時間太短,氧化膜厚度薄且不耐磨。
(6)氧化處理溶液的攪拌:攪拌速度大小與氧化膜生成速度(氧化膜質(zhì)量)有關(guān)。