導(dǎo)語(yǔ):
美國(guó)近期宣布對(duì)中國(guó)加征“對(duì)等關(guān)稅”,雖暫時(shí)豁免半導(dǎo)體產(chǎn)品(除半導(dǎo)體設(shè)備),但業(yè)界預(yù)警未來(lái)可能針對(duì)半導(dǎo)體行業(yè)加碼關(guān)稅。招銀國(guó)際分析指出,此舉將加速中國(guó)半導(dǎo)體國(guó)產(chǎn)替代進(jìn)程,短期內(nèi)沖擊依賴美國(guó)市場(chǎng)的企業(yè),但長(zhǎng)期利好自主可控產(chǎn)業(yè)鏈。全球半導(dǎo)體供應(yīng)鏈在關(guān)稅與政策博弈中面臨深度重構(gòu),國(guó)產(chǎn)替代企業(yè)迎來(lái)戰(zhàn)略機(jī)遇期。
關(guān)稅利劍高懸,供應(yīng)鏈風(fēng)險(xiǎn)升級(jí)
美國(guó)此次“對(duì)等關(guān)稅”雖未直接覆蓋半導(dǎo)體成品,但半導(dǎo)體設(shè)備已被納入征稅范圍,稅率高達(dá)34%。業(yè)內(nèi)警告,未來(lái)若擴(kuò)大至半導(dǎo)體成品,將直接沖擊全球供應(yīng)鏈。
•短期沖擊:收入依賴美國(guó)市場(chǎng)的企業(yè)股價(jià)承壓。以英偉達(dá)為例,其AI核心硬件DGX服務(wù)器若被加征關(guān)稅,成本將飆升,削弱在美國(guó)市場(chǎng)的競(jìng)爭(zhēng)力。
•長(zhǎng)期隱憂:關(guān)稅或?qū)е氯虬雽?dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈“區(qū)域化斷裂”。東南亞國(guó)家如越南被加征46%關(guān)稅,部分原計(jì)劃轉(zhuǎn)移至東南亞的產(chǎn)能或被迫回流,加劇供應(yīng)鏈混亂。
國(guó)產(chǎn)替代加速,技術(shù)突圍進(jìn)行時(shí)
關(guān)稅壓力倒逼中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)加速“去美化”,國(guó)產(chǎn)替代迎來(lái)窗口期。
1、設(shè)備端突破:
•北方華創(chuàng)刻蝕機(jī)已進(jìn)入國(guó)際供應(yīng)鏈,中微公司設(shè)備全球累計(jì)出貨超5000臺(tái),打破美國(guó)應(yīng)用材料、泛林集團(tuán)壟斷。
•新凱來(lái)在SEMICON China發(fā)布31款半導(dǎo)體設(shè)備,覆蓋刻蝕、薄膜沉積等關(guān)鍵環(huán)節(jié),技術(shù)逼近國(guó)際水平。
2、材料端突圍:
•南大光電ArF光刻膠實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),晶瑞電材突破光刻膠技術(shù),逐步替代日本信越等進(jìn)口產(chǎn)品。
•江豐電子高端靶材打破美國(guó)霍尼韋爾壟斷,已進(jìn)入臺(tái)積電供應(yīng)鏈。
3、制造端進(jìn)階:
•中芯國(guó)際14nm良品率突破98%,28nm及以上制程已規(guī)模量產(chǎn),成熟制程國(guó)產(chǎn)替代進(jìn)程提速。
•拓荊科技發(fā)布ALD、3D-IC封裝等新品,助力國(guó)產(chǎn)存儲(chǔ)芯片突破技術(shù)瓶頸。
市場(chǎng)分化加劇,龍頭逆勢(shì)突圍
受益企業(yè):
•韋爾股份:全球CIS圖像傳感器龍頭,車載芯片量?jī)r(jià)齊升,訂單已排至2026年。
•兆易創(chuàng)新:NOR Flash全球市場(chǎng)份額第三,車規(guī)級(jí)MCU導(dǎo)入比亞迪、小鵬供應(yīng)鏈。
•長(zhǎng)電科技:全球第三、國(guó)內(nèi)第一封測(cè)龍頭,全品類先進(jìn)封裝技術(shù)助力國(guó)產(chǎn)替代。
承壓企業(yè):
•果鏈企業(yè):立訊精密、歌爾股份在越南產(chǎn)能面臨46%關(guān)稅,成本激增或迫使蘋果產(chǎn)業(yè)鏈進(jìn)一步向印度轉(zhuǎn)移。
•美光科技:對(duì)華芯片出口或受反制關(guān)稅影響,中國(guó)市場(chǎng)需求占其全球營(yíng)收超50%,風(fēng)險(xiǎn)敞口顯著。
全球供應(yīng)鏈重構(gòu),合作與博弈并存
•區(qū)域化趨勢(shì):東南亞、歐洲或成半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)新熱點(diǎn),但高關(guān)稅和地緣政治風(fēng)險(xiǎn)削弱其成本優(yōu)勢(shì)。
•技術(shù)脫鉤風(fēng)險(xiǎn):美國(guó)限制EDA軟件、高端光刻機(jī)出口,中國(guó)加速自研替代,華大九天EDA工具已支持28nm工藝。
•政策對(duì)沖:中國(guó)大基金三期注資3400億元支持半導(dǎo)體,地方配套政策加速產(chǎn)能落地,上海目標(biāo)2027年算力國(guó)產(chǎn)化率超70%。
結(jié)語(yǔ)
中美貿(mào)易戰(zhàn)下,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)正經(jīng)歷“陣痛與機(jī)遇并存”的轉(zhuǎn)型期。國(guó)產(chǎn)替代從“被動(dòng)應(yīng)對(duì)”轉(zhuǎn)向“主動(dòng)突圍”,技術(shù)突破與政策支持雙輪驅(qū)動(dòng),龍頭企業(yè)在全球供應(yīng)鏈重構(gòu)中有望占據(jù)戰(zhàn)略高位。但產(chǎn)業(yè)鏈深度全球化特征決定,合作仍是主流,如何在博弈中平衡“安全”與“效率”,將是全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)長(zhǎng)期命題。
【免責(zé)聲明】:文章內(nèi)容如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)和其它問(wèn)題,請(qǐng)?jiān)?0日內(nèi)與本站聯(lián)系,我們將在第一時(shí)間刪除內(nèi)容。文章只提供參考并不構(gòu)成任何投資及應(yīng)用建議。刪稿郵箱:info@ccmn.cn